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                雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

                雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

                • 產(chǎn)品型號(hào):
                • 更新時(shí)間:2026-02-08
                • 產(chǎn)品介紹:雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
                  TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見(jiàn)的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術(shù),這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時(shí)常見(jiàn)的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用,因?yàn)樗鼈儗⒈3殖堂}沖持續(xù)時(shí)間,而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時(shí)很難保持這種持續(xù)時(shí)間。
                • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
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                產(chǎn)品介紹

                品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
                組件類(lèi)別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

                雙波段低 GDD 超快反射鏡

                • 用于超快光束轉(zhuǎn)向的高反射率和低 GDD

                • 離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失

                • 設(shè)計(jì)波長(zhǎng)范圍內(nèi)的近零群延遲色散

                TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見(jiàn)的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射膜技術(shù),這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時(shí)常見(jiàn)的散射和吸收損失降至最/低 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用,因?yàn)樗鼈儗⒈3殖堂}沖持續(xù)時(shí)間,而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時(shí)很難保持這種持續(xù)時(shí)間。

                通用規(guī)格

                入射角 (°):45鍍膜類(lèi)型:
                S1: Dielectric
                S2: Stress-compensating
                波長(zhǎng)范圍 (nm):500 - 540, 1000 - 1070
                后表面:Commercial Polish鍍膜規(guī)格:
                Rs>99.9% @500-540nm;
                Rp>99.8% @505-530nm;
                Rs>99.9% @1000-1070nm,
                Rp>99.8% @1000-1070nm
                基底:Fused Silica
                平行度(弧分):<3
                有效孔徑 (%):>90
                典型應(yīng)用:Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers
                <35fs2@ 500 - 540nm (s-pol)
                <50fs2@ 505 - 530nm (p-pol)
                <20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol)
                <40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol)
                鍍膜:Ultrafast (500-540, 1000-1070nm)
                表面質(zhì)量:10-5GDD Specification:
                設(shè)計(jì)波長(zhǎng) DWL (nm):515, 1030

                產(chǎn)品型號(hào)

                標(biāo)題產(chǎn)品編碼
                515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-286
                515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-287
                515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-288

                UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多層反射鏡

                • 設(shè)計(jì)用于 330 阿秒脈沖 @ 65eV (19nm)

                • 具有 38% 峰值反射率的多層鍍膜

                • ≤1? 表面粗糙度超拋光基材

                • 13.5nm 設(shè)計(jì)的 EUV 平面鏡和 EUV 球面鏡也可提供

                UltraFast Innovations (UFI) 極紫外 (EUV) 阿秒多層反射鏡專(zhuān)為控制、聚焦和整形阿秒脈沖而設(shè)計(jì)。 它們的多鍍膜 65eV (19nm) 為中心,帶寬為 6eV (1.8nm),為 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。 這些反射鏡支持時(shí)間持續(xù)時(shí)間為 330 阿秒的 EUV 脈沖。 UFI 極紫外 (EUV) 阿秒鏡非常適合基于高次諧波 (HHG)、自由電子激光器 (FEL) 或其他量子光學(xué)應(yīng)用的阿秒脈沖生成和整形。 提供直徑為25.4mm的平面鏡和凹面鏡; 如果您的應(yīng)用需要具有定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的 EUV 多層反射鏡,請(qǐng)聯(lián)系我們。

                通用規(guī)格

                直徑 (mm):25.40 ±0.13基底:Fused Silica
                后表面:Commercial Polish鍍膜規(guī)格:Rs > 38% @ 65eV/19nm
                表面質(zhì)量:10-5鍍膜:EUV Multilayer (19nm)
                入射角 (°):5有效孔徑 (%):80
                設(shè)計(jì)波長(zhǎng) DWL (nm):19邊緣:Fine Ground
                表面粗糙度(埃):<1Center Energy (eV):65 ±2
                Bandwidth (eV):6Supported Pulse Duration:330 attoseconds
                邊緣厚度 ET (mm):6.35 ±0.20

                產(chǎn)品型號(hào)

                標(biāo)題產(chǎn)品編碼
                25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror#16-765
                25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror#16-766
                25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror#16-767

                技術(shù)數(shù)據(jù)

                超快增強(qiáng)型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡

                • 用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器的超快增強(qiáng)型銀膜

                • 600 - 1050nm 范圍的群延遲色散低 (0±20fs2)

                • <50? RMS 表面粗糙度,以最/大程度地減少散射

                TECHSPEC® 超快增強(qiáng)型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡用于準(zhǔn)直或聚焦指/定偏移角度的入射光。這些反射鏡鍍有超快增強(qiáng)型銀膜,在 600 - 1050nm 范圍內(nèi)提供 >99% 的反射率,同時(shí)保持 0 ±20fs2的低群延遲色散 (GDD)。這些反射鏡的離軸設(shè)計(jì)將焦點(diǎn)與光束路徑分開(kāi),從而在焦點(diǎn)周?chē)峁└嘟换タ臻g,而不會(huì)干擾入射光束。TECHSPEC 超快增強(qiáng)型銀膜 OAP 反射鏡非常適合聚焦來(lái)自中低功率超快激光器的激光,包括 Ti:sapphire 和 Yb:doped 光纖激光器,同時(shí)最大限度地減少超快脈沖的時(shí)間擴(kuò)展。帶有垂直于光軸的孔的安裝板可用于將這些反射鏡安裝到臺(tái)式系統(tǒng)中。

                通用規(guī)格

                焦距容差 (%):±1涂層規(guī)格:
                Ravg>99% @ 600 - 1000nm, 0°
                Rs>99% @ 540 - 1000nm, 45°
                Rp>98.5% @ ~730 - 870nm, 45°
                波長(zhǎng)范圍 (nm):600 - 1050
                面形計(jì)算 (RMS):λ/4
                偏離角度 (°):90鍍膜類(lèi)型:Ultrafast Enhanced Silver
                表面粗糙度(埃):<50 RMS反射波前, RMS:λ/8
                表面質(zhì)量:80-50基底:Aluminum 6061-T6
                涂層:Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)

                產(chǎn)品型號(hào)

                Dia. (mm)EFL (mm)涂層產(chǎn)品編碼
                12.7012.70Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-133
                12.7025.40Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-134
                12.70203.20Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-138
                25.4025.40Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-139
                25.4050.80Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-140
                25.40203.20Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-146
                50.8050.80Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-147
                50.80190.60Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-152

                技術(shù)數(shù)據(jù)

                600-1050nm Ultrafast-Enhanced Silver


                雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

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